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교과과정
공통선택필수
| • 기초지식 | – 수월성이 있는 반도체 물리, 소자, 회로, 공정에 대한 지식 – 최신 학술 논문 이해 가능 수준- PSEP106/EECE802 영어 공학논문작성법 (3-0-2) – 컴퓨터, 통신, 제어 등 응용 시스템에 대한 지식 – 시스템 변화를 따라갈 수 있는 수준으로 부품의 변화를 기획, 개발할 수 있는 부분 |
| • 문제 해결력 | – 학위 과정에서 문제의 정의 및 해결책 모색 등 프로젝트 운용 능력 – 의사소통 능력: 발표, 설득, 포용 등 – 인간사회의 필요에 관심을 갖도록 인문,사회적 소양 필요 |
| • 강의 목표 및 개요 | – 향후 학교를 졸업하고 사회생활을 시작하는 기회에서 새로운 세계에 대한 동경심과 함께 다소 두려움 등이 존재 한다. 이에 꼴찌에서 세계 1등이 된 반도체회사에서의 30년 경험을 바탕으로 기업에서의 우수한 핵심인재로서 성장하기 위한 소양을 강의하고, 현재. 과거의 조직을 관리해 보았던 삼성간부경력자분들을 초빙하여 그분들의 경험담을 같이 공유하고 미래의 인재상에 대해서 상호 논의한다. |
| • 강의 성격 | – 전.현직에 있었던 간부 분들이 그들이 살아왔던 인생관과 힘든 상황을 도전하고 경험했던 생생한 이야기를 공유하고 그들과 같이 질문과 답을 하면서 앞으로 다가올 기업세계에 대한 대비를 하고 전문지식과 함께 더불어 사는 조직에 대한 준비를 하게 한다. |
| • 강의 운영 | – 우선 강사의 경험을 바탕으로 한 강의로 서두를 정립한 후에, 다른 분들의 경험담을 공유하면서 새로운 기업세계의 현실성을 점점 더 발전시키고 확대해 본다.  학업과 일을 즐기고 사랑하라
(Enjoy & love the work)
 핵심가치와 성공요소를 이해하라
(Understand core values)
 변화에 항상 대비하라
(Prepare for changes)
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| • 강의 목표 및 개요 | – 기업이 원하는 미래 공학 인재는 전문적 공학 소양은 물론 융합적 사고를 통한 창의적 문제 해결 역량으로 새로운 가치 창출을 실현하는 인재이다. 따라서 자신의 연구 분야를 넘어 다학제적인 지식을 융합하고 디자인 할 수 있는 훈련이 필요하다. 이에 본 수업은 다양한 지식 기반의 공학력 플랫폼위에서 인문.사회.예술을 아우르는 융합적 상상력과 성찰을 훈련하여 구체적인 문제를 창의적으로 해결하고 미래 사회를 디자인하는 역량을 기른다.. |
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| • 강의 성격 | – Cross Checking on Research Proposal / Design Thinking / Project Based Learning / Human Centered Design / Flipped Learning을 기반으로 한 문제 발견 및 해결 |
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| • 강의 운영 | – 팀별 프로젝트 활동을 위해서 최소 9명 이상 16명 이하 수강생 운영 자신의 연구 분야 발표 후 연구 주제를 크로스체킹하는 크라우드소싱 기반의 새로운 문제 발견과 해결 과정 수행 다양한 융합 주제와 사회적 이슈를 공학 지식과 다학제적 상상력을 적용한 콘텐츠 디자인 수행 |
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| • 강의 내용 및 계획 |
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전공선택필수
| • 강의 목표 및 개요 | – 반도체 부문에서 필요한 기술을 개발하는데 주도적인 역할을 수행할 인재양성을 목표로 학제간(Inter-Disciplinary) 교육을 통하여 본인의 전공을 제외한 다른 기술분야에 대해서도 개념적 이해를 확보하도록 한다. | ||||||||||
| • 강의 내용 및 계획 |
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| • 강의 목표 및 개요 | – 반도체 소자는 얼마나 잘 설계하느냐 뿐만 아니라, 얼마나 효율적으로 잘 만들어 내는지도 중요하다. 최근 원자 수준까지 반도체 소자의 크기가 작아지는 미세 공정의 중요성이 점점 더 높아지면서, PSEP 과정의 전공필수선택 교과목으로 반도체 공정 실험 관련 과목이 제공되어야 한다고 판단되어 본 과목을 새로 개설한다. |
| • 강의 내용 및 계획 | 반도체 물질의 기본 원리부터 시작하여, CMOS 소자의 동작에 대한 복습을 빠르게 진행한다. 이후 필수적인 반도체 공정 과정에 대한 이론적인 학습 후에 교내 반도체 공동 시설에서의 실험을 진행한다. MOSFET 소자의 마스크 설계, 공정, 측정 과정에 대한 교육 후 학생들이 직접 실험 및 분석하는 기회를 제공한다. • 반도체 공정 이론→ thin-film formation, photolithography, etching, ion implantation, annealing • 반도체 공정 실습→ 교내 나노융합기술원 (NINT) 내 클린룸 시설에서 주요 반도체 공정 장비의 이용 교육 • 반도체 공정 시뮬레이션→ Sentaurus 프로그램을 이용한 MOSFET 공정 시뮬레이션 • MOSFET 공정→ Long channel (L≈1~2 µm) MOSFET 공정을 위한 mask 설계 및 공정 • MOSFET 측정/분석→ I-V, C-V, bias stress 측정 및 분석 |
